簡介

GDM-1000CZ高真空雙室連續鍍膜機,主要用於在聚脂薄膜或紙 (含水率3%) 的表面蒸鍍金屬膜層,在高真空狀態下,連續加熱鋁,使金屬鋁分子不斷地蒸發到連續送進的基體材料表面,形成牢固的薄膜,所鍍的金屬薄膜在導電性、透明度、對可見光紫外線和紅外線的吸收性、反射性及純粹的裝飾性中都具有良好的特性,是裝璜、紡織、包裝、印刷、無線電及太陽能利用等行業的理想材料。

主要技術性能規範

蒸發金屬:    
卷膜條件:
基體材料: 聚脂薄膜、紙 (含水率 3%)
最大寬度(毫米): 500
最大卷徑(毫米):f250
卷心直徑(毫米): f80
真空室尺寸(毫米),
(直徑 x 長度)
f1000 x 1100mm
真空室:
二次抽氣時間(空載): 上室(托) 1 x 10-3
下室(托) 5 x 10-3
極限真空(空載): 上室(托)   15分鐘達 5 x 10-3
下室(托)   15分鐘達 5 x 10-4
卷繞控制方法:0.6公斤一米    力矩電機
卷繞軸只數:6
最高卷繞速度 (米 / 分 ): < 60
蒸發器:
石墨坩堝只數:3
每只功率 (千瓦): 10
送絲速度 (米 / 分): 0.5 ~ 5.5
最大耗用功率真(三相) ,(千瓦): 70
佔地面積(米) ,(長 x 寬 x 高): 3.9 x 4.2 x 2.6
Close Menu