簡介

此設備為最新型箱式光學多層鍍膜機。方箱型不鋼工作室提供寬闊的工作面積，並配以大容量抽氣系統; 光學測厚系統固定裝在箱形工作室上部; 整機安裝到淨化工作室方便容易。

 該設備運用於光學薄膜技術中蒸鍍多層膜、高反射膜、寬(窄)帶濾光片。是光學儀器、激光工業、眼鏡及照相等行業科研及生產之必需設備。也運用於電子工業中蒸鍍機型元件薄膜電路等。

 此兩型設備真空性良好，機械結構可靠耐用，穩定的膜厚測試系統工作精度高，多坩堝帶有 H-Y 掃描的磁偏轉電子檢蒸發源，並具有新型的箱式結構外形，操作方便。

特點

使用高性能抽氣機組。       
此兩型設備分別配以 f400及 f600擴散泵抽氣系統，使工作室達7×10^-2Pa低於15分鐘，極限真空達6.6×10-4Pa, 在工作狀態下(電子槍、烘烤、轉動)真空度可保持在1.3×10^-2Pa 以上。       
工作室內各裝置符合使用要求。       

此兩型設備箱體容積分別為648x668x790和770x800x916,為蒸發源等裝置的安裝提供了足夠大的底板位置。室內工件盤可根據用戶需要，制為球面盤和平面盤，工件轉動平穩。ZS-700可另配有三只盤式行星轉動裝置，每盤直徑為 f430。       

帶有溫度控制儀的碘鎢燈烘烤功率分別為 3kW 和 4.5kW, 以保證基片溫度達300^。C要求。       

具備大功率的270。磁偏轉四坩堝電子槍和兩套電阻蒸發電源，及兩組氣動控制的蒸發擋板。       

結構新穎的 3kW/0.6kW 離子轟擊能滿足使用要求。       

工作穩定的高精度膜厚測試系統。       

本機為提高膜厚測試精度，對系統的主要配件及結構件作了慎重的選擇和考慮。        主放大器MK-1型，光棚單式儀WDG-30型，光電倍增管GDB-423型， 高壓電源FH-426B 型，穩定直流電源CG-4型，帶有直接驅動調制光板的39L1224型調制電機，光束會聚於調制光板、比較片、接收光孔及單色儀入口。       

光譜波長範圍3000~8500A。其他波長範圍可調節單色儀光棚線數解決。