簡介
CDW-500 無油超高真空電子束鍍膜機是半導體集成電路硅片鋁膜的蒸發設備，具有無油蒸氣污染、真空度高、鋁膜鈉離子污染少、膜層均勻、膜層爬越台階性能好及工作效率高等優點。
此機採用225。磁偏轉電子槍做為蒸發源，坩堝內容35cc，蒸發速率(Si-AI) 3000 ~ 4000埃 / 分。
基片夾具為球面行星轉動式。
用紅外線燈加熱機片，8分鐘基片升溫達 200。C，溫度可控。
採用寬量程真空計 (範圍 5 x 10-1 ~ 4 x 10-11托) 作真空測量。
採用數字顯示石英晶體振蕩膜厚控制儀監控膜厚。
此機以 JCW-350無油超高真空鈦泵機組抽氣。主泵為400升 / 秒三極式濺射離子泵，輔助泵為1000~1500升 / 秒鈦球升華泵，前級泵為二個1.5kg分子篩級附泵，並附有一奪機械泵加吸附阱輔助前級系統，供在缺乏液氮情況下使用。
主要技術性能規範
| 1 | 工作室尺寸: | 500 x 640mm |
| 2 | 極限真空度: | 5 x 10-9 托 |
| 3 | 恢復真空時間: | 760 ~ 10-7托，1小時之內 |
| 4 | 電子槍功率: | 10kW，10000V，1A(可調) |
| 5 | 基片架自轉速度: | 0 ~ 36秒 / 分(可調) |
| 6 | 基片烘烤功率: | 3kW(可調) |
| 7 | 蒸發硅片量: | f35 ~ f40 硅片120片 |
| 8 | 總功率: | 25kW |
| 9 | 總耗水量: | 500 升 / 小時 |
| 10 | 佔地面積: | 2000 x 2000 x 2400mm |
| 11 | 總重量: | Approx. 2000 kg |