特點

由於在低真空狀態下,氣體受散射和電磁場作用,蒸發離子繞射性好,由它形成的薄膜比在高真空態下形成的薄膜更封閉,交界層的出現膜層粘著性好。 膜層耐磨、耐腐蝕、硬度高。電離幾率比其他蒸發源高 1 ~ 2 數量級。本機電器參數可調節。在更換被蒸鍍材料和反應氣體後,再進一步對蒸鍍工藝研究,本機可以廣泛應用於蒸鍍其它性質的膜層。

應用範圍

輕工業、裝飾膜、手錶、餐具、不鋼基體鍍 Tin (氮化鈦)。機械工業,刀具、模具和工具鋼基體鍍 Tin 和 Tic。電子、航空、化工及原子能工業。

主要技術性能規範

1薄膜性質:氮化鈦
2工作室尺寸:f600 x 450mm
3極限真空度:1 x 10-5 托
4抽氣時間:從760托到5×10-4托     15分鐘
5工作真空度:5 x 10-5 托
6工作轉動架:
自轉     上海牌男錶殼 200只
7空心陰槍最大功率:7.5 kW
8槍持續 20分鐘常用功率:
5 kW
9烘烤溫度:0 ~ 300C
10工件架轉速 ( 300C )  
0 ~ 15轉 / 分 (持續 20分鐘)
11耗電量:380V   26.2kW
220V   24.4kW
12耗水量 (進水溫25C以下,2kg / cm240升分
13氬氣量 (純度 99.9% 以上) 200毫升 / 分
14氮氣量 (純度 99.9% 以上)   100毫升 / 分
15體積 (長 x 寬 x 高 ) 4 x 3 x 2.5m
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