特點
由於在低真空狀態下，氣體受散射和電磁場作用，蒸發離子繞射性好，由它形成的薄膜比在高真空態下形成的薄膜更封閉，交界層的出現膜層粘著性好。 膜層耐磨、耐腐蝕、硬度高。電離幾率比其他蒸發源高 1 ~ 2 數量級。本機電器參數可調節。在更換被蒸鍍材料和反應氣體後，再進一步對蒸鍍工藝研究，本機可以廣泛應用於蒸鍍其它性質的膜層。
應用範圍
輕工業、裝飾膜、手錶、餐具、不鋼基體鍍 Tin (氮化鈦)。機械工業，刀具、模具和工具鋼基體鍍 Tin 和 Tic。電子、航空、化工及原子能工業。
主要技術性能規範
| 1 | 薄膜性質: | 氮化鈦 |
| 2 | 工作室尺寸: | f600 x 450mm |
| 3 | 極限真空度: | 1 x 10-5 托 |
| 4 | 抽氣時間: | 從760托到5×10-4托 15分鐘 |
| 5 | 工作真空度: | 5 x 10-5 托 |
| 6 | 工作轉動架: | 自轉 上海牌男錶殼 200只 |
| 7 | 空心陰槍最大功率: | 7.5 kW |
| 8 | 槍持續 20分鐘常用功率: | 5 kW |
| 9 | 烘烤溫度: | 0 ~ 300。C |
| 10 | 工件架轉速 ( 300。C ) | 0 ~ 15轉 / 分 (持續 20分鐘) |
| 11 | 耗電量: | 380V 26.2kW 220V 24.4kW |
| 12 | 耗水量 (進水溫25。C以下，2kg / cm2) | 40升分 |
| 13 | 氬氣量 (純度 99.9% 以上) | 200毫升 / 分 |
| 14 | 氮氣量 (純度 99.9% 以上) | 100毫升 / 分 |
| 15 | 體積 (長 x 寬 x 高 ) | 4 x 3 x 2.5m |