簡介

CDW-500 無油超高真空電子束鍍膜機是半導體集成電路硅片鋁膜的蒸發設備,具有無油蒸氣污染、真空度高、鋁膜鈉離子污染少、膜層均勻、膜層爬越台階性能好及工作效率高等優點。

此機採用225。磁偏轉電子槍做為蒸發源,坩堝內容35cc,蒸發速率(Si-AI) 3000 ~ 4000埃 / 分。

基片夾具為球面行星轉動式。

用紅外線燈加熱機片,8分鐘基片升溫達 200C,溫度可控。

採用寬量程真空計 (範圍 5 x 10-1 ~ 4 x 10-11托) 作真空測量。

採用數字顯示石英晶體振蕩膜厚控制儀監控膜厚。

此機以 JCW-350無油超高真空鈦泵機組抽氣。主泵為400升 / 秒三極式濺射離子泵,輔助泵為1000~1500升 / 秒鈦球升華泵,前級泵為二個1.5kg分子篩級附泵,並附有一奪機械泵加吸附阱輔助前級系統,供在缺乏液氮情況下使用。

主要技術性能規範

1工作室尺寸:
500 x 640mm
2極限真空度:5 x 10-9 托
3恢復真空時間:760 ~ 10-7托,1小時之內
4電子槍功率:10kW,10000V,1A(可調)
5基片架自轉速度:0 ~ 36秒 / 分(可調)
6基片烘烤功率:3kW(可調)
7蒸發硅片量:f35 ~ f40    硅片120片
8總功率:25kW
9總耗水量:500 升 / 小時
10佔地面積:2000 x 2000 x 2400mm
11總重量:Approx. 2000 kg
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