簡介

磁控濺射技術是利用磁場來增強真空中氣體輝光放電的一種特殊濺射技術。CMS-900同軸磁控濺射鍍膜機有一同軸形靶,有可公自轉的工件轉動架八隻,直徑 f180 毫米。經專家鑒定認為 : 同軸磁控濺射技術是一項具有廣泛應用前途的新工藝技術。其所製備的薄膜具有均勻、結合力強、繞射性好、工件溫度低等特點。

主要技術性能規範

1真空尺寸:
內徑 x 直邊長度900 x 1150 毫米
2抽氣時間:清潔空容器從 760 到 5 x 10-4
<15分鐘
3極限真空:清潔空容器為 
5 x 10-5
4工件行星轉動架轉軸 8 根最大工件直徑<180毫米,
轉速調節範圍 0 ~ 80轉 / 分。公自轉。
5移動式小車:承接轉籠架
6整機功率:380伏50周三相,40千瓦(最大視在功率)
7耗水量:進水溫<251000升 / 小時
8外形尺寸:(L x W x H) 
3065 x 2500 x 1800 毫米
565 x 800 x 1800 毫米

9總重量:3500公斤
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